目前（qián），啞光黑色聚酰（xiān）亞（yà）胺薄膜已經商（shāng）業化，國（guó）內外生（shēng）產廠（chǎng）家有美國杜（dù）邦、韓國SKC、中國台灣達邁、桂林電科院、深圳瑞華泰、無錫高拓和寧波金（jīn）山等，國外均采用雙向（xiàng）拉（lā）伸（shēn）技術製備啞光黑色聚酰亞胺薄膜，已能（néng）穩定生產光澤度為25 GU的高性能（néng）啞光黑色聚酰亞胺薄膜，產（chǎn）品質量較（jiào）好，長期占領高端市場；國內有桂林電科院、深圳瑞華泰和無錫高拓等（děng）具備采用雙向拉伸工藝製備啞（yǎ）光黑色聚酰亞胺薄膜的能力，但製得的啞光黑色（sè）聚酰亞胺薄膜光澤度仍在40 GU以上，還（hái）未掌握光澤度為25GU的低啞光黑色聚酰亞（yà）胺薄膜生產製備技（jì）術。而且國內（nèi）啞光黑色聚酰亞胺薄膜的大多廠家（jiā）仍沿用流涎法製（zhì）備技術，製得的薄膜產品力學性能偏低，縱橫向薄膜性能相差較大（dà），導致薄膜尺寸穩定性差（chà），而且無（wú）法製得厚度低於12μm的薄膜。國內啞光黑色聚酰亞胺薄膜與國外同類產品在力（lì）學性能、電性能、光澤度和尺寸穩定性還存在較大差距。

  隨著電子產品向短、小、輕、薄方向發展（zhǎn），所（suǒ）需的啞光黑色聚酰（xiān）亞胺薄膜也越來越薄，性能要（yào）求越來越高，雙向（xiàng）拉伸技術將成為今後薄膜（mó）製造的主流技術，啞光黑色聚酰亞胺薄膜（mó）在柔性電路板、剛性（xìng）電路板、液晶顯示器，發光二極管、光伏電池（chí），液晶顯示器、可攜式通訊裝置、電子書、平板計算機等電（diàn）子產品中的應用也將越（yuè）來越成熟，需求（qiú）量也將越來越大。國內聚酰（xiān）亞胺薄膜製造商在啞光黑色（sè）聚酰亞胺薄膜（mó）的製（zhì）造方麵，還需攻破多項關鍵技術，提升啞光黑色聚酰亞胺薄膜的產品性能，這（zhè）些關鍵技術（shù）主要為：①研製碳黑分散技術，阻斷碳黑鏈式導電結構的形成，保證薄（báo）膜的絕緣性；②開發（fā）消光粉的防沉（chén）澱、防團（tuán）聚技術，在保證力學性能的前提下，繼續提高消光粉添加量和（hé）增大其粒徑，致力（lì）於開發光澤度更低的黑色聚酰亞胺薄膜產品；③研（yán）究基體樹脂配方與填料的匹配設計，製備力學性能優異、熱膨脹係數低、熱收縮率低的啞（yǎ）光黑色聚酰亞胺薄膜；④注重碳黑漿料、消光粉漿料與聚酰胺酸樹脂的複合（hé）技術，研（yán）究聚酰胺酸鏈段（duàn）長度、黏度和無機填料加料順序（xù）對混合均勻度的影響（xiǎng），製備性能均一（yī）穩定的啞光黑（hēi）色聚酰亞胺薄膜。