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低熱膨脹係數聚酰(xiān)亞胺薄(báo)膜的發展展望
日期:2019-06-15 人(rén)氣:788
聚酰亞胺因具有高強度、高韌性、耐高溫、低介電常數等(děng)特殊性能已成為電子領域不可或缺(quē)的原材料(liào)之一(yī)。在印製電路板的製作工藝中,需要聚酰亞(yà)胺與銅箔覆合,由於高分(fèn)子材料與金屬(shǔ)材料之間結構的差異,導致聚酰(xiān)亞胺(àn)的熱膨脹(zhàng)係數比銅箔大得多,這種熱膨脹係數的不匹(pǐ)配導致在(zài)受熱時由於內應力的存在(zài)使得(dé)聚酰亞胺薄膜與銅箔之(zhī)間容(róng)易發生翹曲、斷裂、脫層等質量問題,嚴重損壞了產品的性能。
具有高尺寸穩定性的聚酰亞胺(àn)薄膜可用(yòng)作柔性(xìng)顯示材料,透明的低熱膨脹係數聚酰亞胺(àn)薄膜還可用於太陽(yáng)能電池板。此外,具有低介電常數、低熱(rè)膨脹係數的聚酰亞胺也被用於電子封裝材(cái)料和包覆材料(liào)。目前,雖然國(guó)內外部分公司已經開發出了一係列綜合性能比較優異的(de)低熱膨(péng)脹係數聚酰亞胺薄膜,但總體來說仍然有一些問題亟待解決(jué),以後可以從以下(xià)幾個(gè)方(fāng)麵展開:降低熱膨脹係數的同時兼顧材料的力學性能和(hé)黏結(jié)性能;避免(miǎn)納米粒子在聚酰亞胺基體中的團聚現象;繼續開發性能優異的共聚型聚酰亞胺材(cái)料;改進加工(gōng)工藝,製備綜合性能良好的聚(jù)酰亞胺材料(liào)。